近期，世界科技界传来一则重要音讯，荷兰高端光刻机制作商ASML公司正式宣告，其最新研制的EUV光刻机类型EXE:5200行将问世并交给客户。这款机器相较于上一任类型，功用有了明显提高，但据称将不会对创意企业敞开出售。

  据悉，EXE:5200是在初代High NA EUV光刻机EXE:5000的基础上进行了全面晋级。其最大的亮点在于晶圆吞吐量的激增，每小时可轻松处理超越185片晶圆，这关于2nm工艺的大规模出产无疑是一大利好。

  早在之前，ASML就已宣告，业界首台TWINSCAN EXE:5200光刻机已被英特尔订货。这款光刻机不只具有高数值孔径，并且晶圆处理才能超越每小时200片，标志着0.55 NA EUV技能的又一重大突破。TWINSCAN EXE:5000与EXE:5200均配备了0.55数值孔径的透镜，相较于之前0.33数值孔径的透镜，精度完成了质的腾跃，为更小尺度的晶体管功用供给了史无前例的高分辨率。

  ASML公司着重，EUV 0.55 NA技能旨在从2025年起，应用于多个未来的技能节点，并逐步推广至相似密度的内存技能中。这一技能的推出，无疑将为半导体职业的开展注入新的生机，推进芯片制作迈向更高水平。回来搜狐，检查更加多