中国氟化氩光刻机成功问世，西方技术封锁将不攻自破。那么今天就带大家来一探究竟。或许很多国人都知道，在高科技制造领域，我国长期

  以来就遭到西方国家的技术封锁，甚至我国从荷兰购买的光刻机所消耗的经费都是其他几个国家的数倍，由此就能够准确的看出，我国在尖端高科技领域发展上可谓是相当的憋屈。然而近期我国官方对外发布了一则消息，那就是我国成功造出了国产氟化氩光刻机，这款光刻机无论是在材料、工艺还是核心技术上都是我国独立自主完成，最关键的就是氟化氩光刻机可以在一定程度上完成对65内米至8nm的分辨率套核精度，虽然相比较荷兰阿斯麦的3nm光刻机来说，还存在一定的技术差距，但氟化氩光刻机却是一种全新的光刻机，这也就从另一方面代表着我国氟化氩光刻机未来还具备极大的升级。因此，国产新型光刻机未来实现三大利套客基本上也只是时间的问题。当然，随着氟化氩光刻机的成功问世，不仅令我国在半导体领域上取得了重大突破，同时还为我国光刻机制造奠定了坚实的基础，届时西方国家对我国的尖端技术封锁也将彻底不攻自破。从网上的消息来看，氟化氩光刻机是由我国上海微电子装备和中微半导体设备两家公司联刻研发，该型光刻机技术不仅十分先进，而且所采用的光刻工艺与西方国家有着明显的不同。相比较荷兰

  的极紫外光刻机来说，氟化氩光刻机的工作原理主要是通过高能粒子的轰击，氟化氩准分子激光器就可当作光源，紧接着，氟化氩气体就会促进分解为诸多的高能带电粒子，随即这些带电粒子就会与光刻胶上的硅片发生一系列的反应。图片来源于图片来源于br/>

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