【48812】苏大维格:现在大规模批量制作芯片用光刻机最重要的包含DUV深紫外光刻机EUV极紫外等这类技能工艺和资料难度极高公司现在不触及此类的整机制作

  同花顺300033)金融研究中心9月14日讯,有投资者向苏大维格300331)发问, 请问贵公司触及半导体光刻机嘛??

  公司答复表明,您好,现在大规模批量制作芯片用光刻机最重要的包含DUV深紫外光刻机/EUV极紫外光刻机等,这类光刻机技能工艺和资料难度极高,公司现在不触及此类光刻机的整机制作。DUV和EUV在出产芯片过程中运用的掩摸板,需求直写光刻机机型进行制作,包含激光直写光刻机和电子束光刻机。除掩摸外,激光直写光刻机也可大规模的运用在微纳光学资料、MEMS产品、射频器材、滤波器材、光子芯片等制作。现在公司对外出售的主要是激光直写光刻机。谢谢!

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